PhotriX 小光斑測溫儀 太陽能、晶體生長過程小目標紅外測溫儀
PhotriX系列的性能體現(xiàn)在其傳統(tǒng)的鏡頭配置。這一配置用于從遠處或通過視窗/視口觀測目標，被廣泛地應用于先進材料、

太陽能、晶體生長過程以及 半導體應用領(lǐng)域。該配置提供五個不同的近紅外光譜響應(880 nm, 900 nm, 1550 nm以及700-1650 nm)。測溫范圍為75 °C-2600 °C。可供選配的配件包含了工業(yè)安裝用的帶有空氣吹洗的保護冷卻套

主要特性
低溫測量功能（具體內(nèi)容請參照以下表格）；
65°C溫度條件下光譜響應為700-1650nm
125°C溫度條件下光譜響應為1550nm
270°C溫度條件下光譜響應為900nm
280°C溫度條件下光譜響應為880nm
490°C溫度條件下光譜響應為650nm
光斑尺寸小，最小為0.5毫米（在99%能源條件下）；
響應時間短，僅1毫秒；
精確度+/- 1.5 °C或讀數(shù)的0.15%；
精度0.01 °C（詳見技術(shù)資料TN-828）。

簡要描述
Photrix系列是我們精確的測溫儀，擁有行業(yè)內(nèi)較好的信噪比，可測量低溫，實現(xiàn)小光斑尺寸以及快速響應時間（1毫秒）。標準鏡頭配置有5種光譜響應（波長），
模擬輸出(用戶可選4-20mA或0-10V)、帶有鏡頭吹掃的保護硬件以及多通道接口模塊（單個數(shù)字信號最多可使用8個傳感器）可供選擇。標準系統(tǒng)包括所有必要的電纜、電源、電腦接口軟件以及存檔/校正系統(tǒng)。
典型應用
具有低輻射率的金屬；
鋁；
銅銦鎵硒(CIGS)薄膜太陽能沉積；
非晶硅薄膜沉積；
激光加熱過程；
直拉晶體生長；
光纖拉絲；
感應加熱。